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作者:an888    发布于:2024-08-02 02:25   

  首页,天辰注册,首页, 傲世皇朝注册,仪器信息网磁控溅射仪专题为您提供2024年最新磁控溅射仪价格报价、厂家品牌的相关信息, 包括磁控溅射仪参数、型号等,不管是国产,还是进口品牌的磁控溅射仪您都可以在这里找到。 除此之外,仪器信息网还免费为您整合磁控溅射仪相关的耗材配件、试剂标物,还有磁控溅射仪相关的最新资讯、资料,以及磁控溅射仪相关的解决方案。

  一、项目基本情况项目编号:0705-2240 02012003项目名称:上海期智研究院磁控溅射仪采购预算金额:300.0000000 万元(人民币)最高限价(如有):300.0000000 万元(人民币)采购需求:包件号项目数量简要技术规格备注1磁控溅射仪1套配置304L不锈钢超高真空不锈钢反应腔体,预留RHEED、RGA等接口,后续可按需升级。沉积腔室可升级集成9个2英寸超高真空溅射靶枪。预算:人民币300万元。 合同履行期限:交货期:收到预付款后8到10个月内。本项目( 不接受 )联合体投标。二、申请人的资格要求:1.满足《中华人民共和国政府采购法》第二十二条规定;2.落实政府采购政策需满足的资格要求:(1) 投标人应为符合《中华人民共和国招标投标法》规定的独立法人或其他组织;(2) 投标人应为投标产品的制造商或其合法代理商,代理商投标应提供投标产品的制造商针对本项目的唯一授权;(3) 投标人须在投标截止期之前在国家商务部认可的机电产品招标投标电子交易平台(以下简称机电产品交易平台,网址为:)上完成有效注册;(4) 本项目不允许联合体投标;(5) 本项目不允许分包和转包(代理商中标后提供由其投标文件中承诺的投标产品制造商生产的产品不视为转包)。 3.本项目的特定资格要求:(1) 投标人应为符合《中华人民共和国招标投标法》规定的独立法人或其他组织;(2) 投标人应为投标产品的制造商或其合法代理商,代理商投标应提供投标产品的制造商针对本项目的唯一授权;(3) 投标人须在投标截止期之前在国家商务部认可的机电产品招标投标电子交易平台(以下简称机电产品交易平台,网址为:)上完成有效注册;(4) 本项目不允许联合体投标;(5) 本项目不允许分包和转包(代理商中标后提供由其投标文件中承诺的投标产品制造商生产的产品不视为转包)。三、获取招标文件时间:2022年08月02日 至 2022年08月09日,每天上午8:30至11:00,下午13:00至17:00。(北京时间,法定节假日除外)地点:上海国际招标有限公司电子采购平台方式:电子发售售价:¥500.0 元,本公告包含的招标文件售价总和四、提交投标文件截止时间、开标时间和地点提交投标文件截止时间:2022年08月31日 09点30分(北京时间)开标时间:2022年08月31日 09点30分(北京时间)地点:上海国际招标有限公司电子采购平台五、公告期限自本公告发布之日起5个工作日。六、其他补充事宜供应商首次注册应按要求提供《供应商注册专用授权函和承诺书》(可从供应商注册页面下载)和营业执照等扫描件,供应商应当提前准备,尽早办理,以免影响领购招标文件。已注册的潜在投标人可从网站采购公告栏的相应公告或者网站上方“SITC电子采购平台”中进入在线领购招标文件流程。若公告要求提供其他领购资料的,潜在投标人应当上传相关资料的原件扫描件,否则招标代理有权拒绝向其出售招标文件。无需提供领购资料的项目,潜在投标人提交领购申请并支付费用到账后即可下载电子招标文件。项目经理会将纸质招标文件快递给潜在投标人,电子发票将发至投标人登记的邮箱。七、对本次招标提出询问,请按以下方式联系。1.采购人信息名 称:上海期智研究院     地址:上海市徐汇区云锦路701号40-41层        联系方式:徐瑞;      2.采购代理机构信息名 称:上海国际招标有限公司            地 址:中国上海延安西路358号美丽园大厦14楼            联系方式:胡羡聪、刘洲烨;86-21-32173682            3.项目联系方式项目联系人:胡羡聪、刘洲烨电 线

  自从2020年Quantum Design中国子公司将英国Moorfield nanotechnology公司生产的台式高精度薄膜制备与加工系统引进国内市场以来受到了国内科研工作者的广泛关注。Moorfield Nanotechnology推出的台式设备体积小巧但性能可以和大型设备相媲美,并且自动化程度高、操作简单、性能可靠、配置灵活。设备所具有的这些优点正是现代实验所需要的。Moorfield Nanotechnology长期收集用户的需求并对产品线进行不断的优化丰富,以满足各种个性化的实验需求。近年来,越来越多的前沿研究中需要用到多种薄膜制备手段,而传统的设备往往只有一种薄膜制备功能,制备一个样品就需要先后在不同的设备中进行操作,并且容易对样品的性质造成破坏。针对这样的需求,Moorfield Nanotechnology公司全新推出了台式高精度溅射与热蒸发系统——nanoPVD ST15A。该系统可以集成金属/绝缘体溅射、金属热蒸发、有机物蒸发功能,在同一台设备中可以实现多种制备手段的组合,将薄膜制备带入了新的高度。系统通过7英寸触摸屏控制,自动化程度高,各种制备方式可以自由切换,甚至可以同时进行。用户可以通过灵活的制备手段在在同一台设备中制备不同的薄膜或者是复合薄膜。nanoPVD ST15A外观图设备技术特点☛ 台式设备配置灵活☛ 磁控溅射、热蒸发、有机物蒸发☛ 三种制备手段可灵活组合☛ 可制备金属、有机物、电介质薄膜☛ 多达3个流量计控制过程气体☛ 高精度自动气压控制选件☛ 全自动触屏操作系统☛ 基片大至4英寸☛ 可选基片加热☛ 本底线 mbar☛ 可选共溅射(蒸发)功能☛ 可选晶振膜厚标定功能☛ 定义保存多个制备程序☛ 全面的安全性设计☛ 超净间兼容☛ 稳定的性能左:nanoPVD ST15A 双蒸发源与磁控溅射组合,右:系统的样品台与挡板背景介绍Moorfield Nanotechnology是英国材料科学领域高性能仪器研发公司,成立25年来专注于高质量的薄膜生长与加工技术,拥有雄厚的技术实力,推出的多种高性能设备受到科研与工业领域的广泛好评。Moorfield公司近十年来与曼彻斯特大学诺奖技术团队紧密合作,推出的台式高精度薄膜制备与加工系列产品由于其体积小巧、性能优异、易于操作更是受到很多科研单位的赞誉。这些设备已经进入了欧洲多所科研院所的实验室,诸如曼彻斯特大学、剑桥大学、帝国理工学院、诺森比亚大学、巴斯大学、埃克塞特大学、哈德斯菲尔德大学、莱顿大学、亚森工业大学、西班牙光子科学研究所、英国国家物理实验室等单位都是Moorfield Nanotechnology的用户和长期合作者。诸多的用户与合作者让产品的性能和设计理念得到了高速发展,并迈入全球化的进程。Quantum Design中国子公司与Moorfield Nanotechnology正式合作,作为中国的代理和战略合作伙伴,为中国用户提供高性能的设备与优质的服务。除了台式设备之外我们还提供多种大型设备和定制服务。目前国内已有包括清华大学、西湖大学、大连理工大学、广东工业大学、中科院等多个单位采购了不同型号的Moorfield高性能薄膜制备与加工设备。产品链接1、台式高性能多功能PVD薄膜制备系列—nanoPVD

  一、项目基本情况项目编号:0664-2260SUMEC787D项目名称:东南大学微纳系统国际创新中心磁控溅射镀膜仪采购预算金额:260.0000000 万元(人民币)最高限价(如有):260.0000000 万元(人民币)采购需求:东南大学微纳系统国际创新中心采购磁控溅射镀膜仪 一套本项目接受进口产品。合同履行期限:合同签约后12个月到货安装调试合格。本项目( 不接受 )联合体投标。二、申请人的资格要求:1.满足《中华人民共和国政府采购法》第二十二条规定;2.落实政府采购政策需满足的资格要求:本项目若符合扶持福利企业、促进残疾人就业、支持中小微企业、支持监狱和戒毒企业等政策, 将落实相关政策。3.本项目的特定资格要求:(1)供应商必须是所投产品的制造商或代理商,若投标人不是投标产品制造商的,投标人必须具有下列授权文件之一(本条只适用于进口产品):a.供应商必须提供制造商出具的授权函正本; b.制造商的国内全资子公司出具的授权函正本; c.制造商对授权的区域代理商出具的授权函复印件及该区域代理商出具的授权函正本; d.投标人取得的产品代理证书复印件(正本备查)。4.拒绝下述供应商参加本次采购活动:(1)供应商单位负责人为同一人或者存在直接控股、管理关系的不同供应商,不得参加同一合同项下的政府采购活动。(2)凡为采购项目提供整体设计、规范编制或者项目管理、监理、检测等服务的供应商,不得再参加本项目的采购活动。(3)供应商被“信用中国”网站()、“中国政府采购网(列入失信被执行人、税收违法黑名单、政府采购严重违法失信行为记录名单。三、获取招标文件时间:2023年01月05日 至 2023年01月11日,每天上午9:00至11:00,下午14:00至17:00。(北京时间,法定节假日除外)地点:线上方式:在线 元,本公告包含的招标文件售价总和四、提交投标文件截止时间、开标时间和地点提交投标文件截止时间:2023年01月29日 09点30分(北京时间)开标时间:2023年01月29日 09点30分(北京时间)地点:南京市长江路198号苏美达大厦辅楼303会议室,五、公告期限自本公告发布之日起5个工作日。六、其他补充事宜申请人的资格要求:1、满足《中华人民共和国政府采购法》第二十二条规定:(1)具有独立承担民事责任的能力(提供法人或者其他组织的营业执照,自然人的身份证明);(2)具有良好的商业信誉和健全的财务会计制度(提供参加本次政府采购活动前半年内(至少一个月)的会计报表或者上一年度的财务审计报告,成立不足一年的提供开标前六个月内的银行资信证明原件。);(3)具有履行合同所必需的设备和专业技术能力(根据项目需求提供履行合同所必需的设备和专业技术能力的证明材料); (4)有依法缴纳税收和社会保障资金的良好记录(提供参加本次政府采购活动前半年内(至少一个月)依法缴纳税收和社会保障资金的相关材料);(5)参加政府采购活动前三年内,在经营活动中没有重大违法记录(提供参加本次政府采购活动前3年内在经营活动中没有重大违法记录的书面声明)(格式见后附件)。(6)法律、行政法规规定的其他条件。2、凭以下材料获取:(1)获取采购文件材料:1、营业执照【复印件加盖公章,扫描件】2、介绍信或者法定代表人授权书【原件加盖公章,扫描件,开具日期不得早于公告日期】3、委托代理人身份证【复印件加盖公章,扫描件】4、采购文件获取登记表word版【详见招标公告附件】(2)凡有意参加本次采购活动的供应商必须提供第(1)条规定证件登记并获取,不按规定获取的视为获取失败。3、我司提供了在线获取采购文件服务,操作流程如下:(1)、用微信关注我司公众号“苏美达达天下”。(2)、进入公众号-“在线服务”-“在线)、输入本项目的项目编号,举例:0664-2260SUMEC787D,点击查询。添加您所要获取的采购文件到购物车,输入投标单位名称、领购人信息以及发票信息,提交订单并确认微信支付,支付完成后将报名材料扫描件和登记表word版一并发至采购代理机构联系人:焦立阳,邮箱: 即可,我们将会把采购文件电子版发送到领购人的邮箱。注意事项:(1)确保领购人邮箱真实准确无误,电子版采购文件将发送到此邮箱。(2)目前标书费发票支持开标现场领取或者顺丰到付。(3)“苏美达达天下”付款平台填写的投标单位名称必须与开票信息一致。如不一致投标人自行承担后果。请认真填写领购人信息及发票信息。(4)非采购代理机构或平台公司原因,发票一经开具不予退换。4、疫情防控期间注意事项(本项目采取在线流程):在线流程:因疫情原因,本项目进行线上开标,请供应商尽量提前准备投标文件,以便及时送达代理机构指定的地点。供应商按照不见面开标通知(附件1)的要求参加开标会议。如因投标文件未及时送至代理机构造成的后果由供应商自负。七、对本次招标提出询问,请按以下方式联系。1.采购人信息名称:东南大学地址:南京市玄武区四牌楼2号联系方式:技术咨询:微纳系统国际创新中心:贺老师 电线; 实验室与设备管理处:刘加彬 电线.采购代理机构信息名称:苏美达国际技术贸易有限公司地址:南京市长江路198号苏美达大厦联系方式:项目联系人:杨 扬、焦立阳 电线.项目联系方式项目联系人:杨 扬、焦立阳电线

  240万!成都大学附属医院红外光谱仪、磁控溅射镀膜机、X-射线衍射仪采购项目

  项目编号:N1项目名称:红外光谱仪、磁控溅射镀膜机、X-射线衍射仪采购项目采购方式:公开招标预算金额:2,400,000.00元采购需求:详见采购需求附件合同履行期限:采购包1:自合同签订生效后起10日内采购包2:自合同签订生效后起10日内采购包3:自合同签订生效后起10日内本项目是否接受联合体投标:采购包1:不接受联合体投标采购包2:不接受联合体投标采购包3:不接受联合体投标8a69c98f85909e000185957d38207018.docx

  p style=text-align: justify text-indent: 2em span style=text-indent: 28px 薄膜沉积是集成电路制造过程中必不可少的环节,传统的薄膜沉积工艺主要有物理气相沉积(/spanspan style=text-indent: 28px PVD/spanspan style=text-indent: 28px )、化学气相沉积(/spanspan style=text-indent: 28px CVD/spanspan style=text-indent: 28px )等气相沉积工艺。物理气相沉积/spanspan style=text-indent: 28px (Physical Vapour Deposition/spanspan style=text-indent: 28px ,/spanspan style=text-indent: 28px PVD)/spanspan style=text-indent: 28px 技术是在真空条件下,采用物理方法,将材料源/spanspan style=text-indent: 28px ——/spanspan style=text-indent: 28px 固体或液体表面气化成气态原子、分子或部分电离成离子,并通过低压气体(或等离子体)过程,在基体表面沉积具有某种特殊功能的薄膜的技术。/span/pp style=text-indent: 28px text-align: justify 物理气相沉积技术工艺过程简单,对环境改善,无污染,耗材少,成膜均匀致密,与基体的结合力强。该技术广泛应用于航空航天、电子、光学、机械、建筑、轻工、冶金、材料等领域,可制备具有耐磨、耐腐蚀、装饰、导电、绝缘、光导、压电、磁性、润滑、超导等特性的膜层。/pp style=text-align: justify text-indent: 2em 仪器信息网近期特对一年内的spanPVD/span设备的中标讯息整理分析,供广大仪器用户参考。span style=color: rgb(127, 127, 127) font-size: 14px (注:本文搜集信息全部来源于网络公开招投标平台,不完全统计分析仅供读者参考。)/span/pp style=text-align: center text-indent: 0em span style=text-align: center img style=max-width: 100% max-height: 100% width: 400px height: 240px src=微软雅黑 ,sans-serif color:#444444各月中标量占比/span/strong/pp style=text-indent: 28px text-align: justify span2019/span年span10/span月至span2020/span年span9/span月,根据统计数据,spanPVD/span设备的总中标为span218/span台,涉及金额上亿元。span2019/span年span10/span月至span12/span月,平均中标量约span25/span台每月。span2020/span上半年,由于疫情影响,span1/span月至span4/span月中标市场持续低迷,平均中标量约span5/span台每月,其中二月份无成交量。随着国内疫情稳定以及企业复产复工和高校复学的逐步推进,spanPVD/span设备中标市场活力回升,从二月份到七月份中标量不断增长,其中span7/span月spanPVD/span中标量达span27/span台。第三季度的spanPVD/span设备采购基本恢复正常,平均中标量约span24/span台每月。/pp style=text-align:centerimg style=max-width: 100% max-height: 100% width: 400px height: 252px src=微软雅黑 ,sans-serif color:#444444采购单位性质分布/span/strong/pp style=text-indent: 28px text-align: justify 从spanPVD/span设备的招标采购单位来看,高校是采购的主力军,采购量占比高达span68%/span,而企业和科研院所的采购量分别占比span12%/span和span19%/span。值得注意的是,企业和科研院所采购设备的单价较高,集中于高端设备,高校采购低端设备比例略高。企业方面的采购单位主要为电子产业,高校方面的采购单位以大学为主。/pp style=text-align:centerimg style=max-width: 100% max-height: 100% width: 400px height: 265px src=微软雅黑 ,sans-serif color:#444444招标单位地区分布/span/strong/pp style=text-indent: 28px text-align: justify 本次盘点,招标单位地区分布共涉及span25/span个省份、自治区及直辖市。广东、北京、浙江、江苏和湖北为spanPVD/span设备采购排名前span5/span的地区,其中广东的采购量最大,达span32/span台。在这些地区中,上海、浙江和江苏的spanPVD/span设备采购以高校为主力,北京以科研院所和高校采购为主力,只有湖北以企业采购为主。这主要是因为湖北武汉聚集了国内一批半导体企业,如武汉天马微电子有限公司和湖北长江新型显示产业创新中心有限公司,致力于打造“中国光谷”。/pp style=text-align:centerimg style=max-width: 100% max-height: 100% width: 400px height: 233px src=微软雅黑 ,sans-serif color:#444444不同类型spanPVD/span设备占比/span/strong/pp style=text-indent: 28px text-align: justify spanPVD/span设备种类繁多,包含了磁控溅射、蒸发镀膜、真空镀膜等类型。根据搜集到的中标数据可知,磁控溅射占据了中标spanPVD/span设备的主流、高达span72%/span的spanPVD/span设备采购为磁控溅射。一般的溅射法可被用于制备金属、半导体、绝缘体等多种材料,且具有设备简单、易于控制、镀膜面积大和附着力强等优点。上世纪span 70 /span年代发展起来的磁控溅射法更是实现了高速、低温、低损伤。因为是在低气压下进行高速溅射,必须有效地提高气体的离化率。磁控溅射通过在靶阴极表面引入磁场,利用磁场对带电粒子的约束来提高等离子体密度以增加溅射率。/pp style=text-indent: 28px text-align: justify 本次spanPVD/span设备中标盘点,涉及品牌有泰科诺、spanKurt J. Lesker/span、创世威纳、spanMoorfield/span、spanLeica/span、合肥科晶、spanVEECO Instruments Inc./span、spanTeer Coatings Ltd./span、spanQUORUM/span、span style=font-size:15pxSyskey/spanspan style=font-size:15px、spanApplied Materials ,lnc./span、spanULVACInc/span、株式会社昭和真空/span等。/pp style=text-indent: 29px text-align: justify span style=font-size:15px其中,各品牌比较受欢迎的产品型号有:/span/pp style=text-align: center text-indent: 0em img style=max-width:100% max-height:100% src=三靶射频磁控溅射镀膜仪/span/span/a/span/strong/pp style=text-indent: 29px text-align: justify span style=font-size:15px这是一款小型台式span3/span靶等离子溅射仪span(/span射频磁控型span)/span,配有三个span1/span英寸的磁控等离子溅射头和射频(spanRF/span)等离子电源,此款设备主要用于制作非导电薄膜,特别是一些氧化物薄膜。对于新型非导电薄膜的探索,它是一款廉价并且高效的实验帮手。这款span1/span英寸的射频溅射镀膜仪主要是用于在单晶基片上制备氧化物膜,所以并不需要太高的真空度。/span/pp style=text-align: center text-indent: 0em img style=max-width:100% max-height:100% src=双靶磁控溅射仪/span/span/a/span/strong/pp style=text-indent: 29px text-align: justify span style=font-size:15px /spanspan style=font-size: 15px 双靶磁控溅射仪是沈阳科晶自主新研制开发的一款高真空镀膜设备,可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜、半导体薄膜、陶瓷薄膜、介质薄膜、光学薄膜、氧化物薄膜、硬质薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。/spanspan style=font-size: 15px VTC-600-2HD/spanspan style=font-size: 15px 双靶磁控溅射仪配备有两个靶枪,一个弱磁靶用于非导电材料的溅射镀膜,一个强磁靶用于铁磁性材料的溅射镀膜。与同类设备相比,且具有体积小便于操作的优点,且可使用的材料范围广,是一款实验室制备各类材料薄膜的理想设备。/span/pp style=text-indent: 0em text-align: center img style=max-width:100% max-height:100% src=科特莱思科热阻蒸发镀膜系统/span/span/a/span/strong/pp style=text-indent: 29px text-align: justify span style=font-size:15px这款仪器由预真空进样室(可选)前开门蒸发腔体、冷凝泵和干泵、多个热阻蒸发源或spanOLED/span低温蒸发源、span6”/span基片、基片旋转、基片偏压(可选)、离子源清洗基片(可选)、基片加热span1000/span度span(/span可选span)/span等部分构成。晶振沉积速率及膜厚控制可选择系统手动或自动控制等方式,能够沉积金属、半导体和绝缘材料,还可沉积多层膜及合金薄膜。/spanspan style=font-size: 15px /span/pp style=text-indent: 29px text-align: justify span style=font-size:15px点击此处进入/spanspana href=【span半导体行业专用仪器span】/span/span/span/span/a/spanspan style=font-size:15px专场,获取更多产品信息。/span/pp style=text-indent: 29px text-align: center span style=font-size:15px更多资讯请扫描下方二维码,关注【材料说】/span/pp style=text-indent: 28px text-align: center img style=max-width:100% max-height:100% src=材料说.jpg alt=材料说.jpg//p

  据广州南沙发布消息,6月28日,广州市南沙区在明珠湾大桥桥面举办重大项目集中签约动工竣工(投产)暨明珠湾大桥通车活动。76个项目于当天集中签约、动工竣工(投产),涵盖新能源汽车、芯片等先进制造产业。在当天的签约仪式上,10个重点项目分两批进行现场签约,总投资额160亿元,达产产值796亿元,其中包括湾区半导体高端设备智造基地。据介绍,湾区半导体高端设备智造基地是先导集团拟在南沙投资建现代化的半导体设备产业园,项目建成后拥有生产各类镀膜沉积设备、磁控溅射设备、离子蚀刻设备及交钥匙工程的综合生产能力。先导集团目前已掌握核心专利和工艺技术,项目产品将拥有100%自主产权,满足半导体产业链国产化替代的需求。广州南沙发布消息指出,目前,南沙正积极促进第三代半导体与新能源汽车产业的融合创新,成立第三代半导体创新中心,形成以晶科电子、芯粤能、爱思威为代表,以联晶智能、芯聚能为龙头的从晶圆生产到芯片设计、封装及应用的第三代半导体全产业链,为将来三千亿级新能源汽车产业集群发展提供“芯”能量。

  近年来,随着量子材料研究的兴起对薄膜制备方法的需求更加的多样化,而传统的薄膜制备设备往往只有一种薄膜制备功能,制备一个样品就需要先后在不同的设备中进行操作,并且容易对样品的性质造成破坏,也需要更多的科研经费投入。英国Moorfield Nanotechnology公司立足于多种成熟的薄膜制备设备,并长期收集用户的需求并对产品线进行不断的优化丰富,以满足各种个性化的实验需求。针对目前日趋多样化的需求,Moorfield Nanotechnology公司全新推出了台式高精度溅射与热蒸发系统——nanoPVD ST15A。该系统可以集成金属/绝缘体溅射、金属热蒸发、有机物蒸发功能,在同一台设备中可以实现多种制备手段的组合,将薄膜制备带入了新的高度。有别于传统台式系统仅用于制备电极等简单用途,nanoPVD ST15A系统是真正的学术研究级设备,可以制备多种高质量的薄膜样品。体统通过7英寸触摸屏控制,自动化程度高,各种制备方式可以自由切换。用户可以通过灵活的制备手段在在同一台设备中制备不同的薄膜或者是复合薄膜。nanoPVD ST15A外观图设备技术特点☛ 台式设备配置灵活☛ 磁控溅射、热蒸发、有机物蒸发☛ 三种制备手段可灵活组合☛ 可制备金属、有机物、电介质薄膜☛ 多达3个流量计控制过程气体☛ 高精度自动气压控制选件☛ 全自动触屏操作系统☛ 基片大至4英寸☛ 可选基片加热☛ 本底线 mbar☛ 可选共溅射(蒸发)功能☛ 可选晶振膜厚标定功能☛ 定义保存多个制备程序☛ 全面的安全性设计☛ 超净间兼容☛ 稳定的性能左:nanoPVD ST15A 双蒸发源与磁控溅射组合,右:系统的样品台与挡板 背景介绍Moorfield Nanotechnology是英国材料科学领域高性能仪器研发公司,成立25年来专注于高质量的薄膜生长与加工技术,拥有雄厚的技术实力,推出的多种高性能设备受到科研与工业领域的广泛好评。Moorfield公司近十年来与曼彻斯特大学诺奖技术团队紧密合作,推出的台式高精度薄膜制备与加工系列产品由于其体积小巧、性能优异、易于操作更是受到很多科研单位的赞誉。这些设备已经进入了欧洲多所科研院所的实验室,诸如曼彻斯特大学、剑桥大学、帝国理工学院、诺森比亚大学、巴斯大学、埃克塞特大学、伦敦玛丽女王大学、哈德斯菲尔德大学、莱顿大学、亚森工业大学、西班牙光子科学研究所、英国国家物理实验室等单位都是Moorfield Nanotechnology的用户和长期合作者。诸多的用户与合作者让产品的性能和设计理念得到了高速发展,并迈入全球化的进程。Quantum Design中国子公司与Moorfield Nanotechnology正式合作,作为中国的代理和战略合作伙伴,为中国用户提供高性能的设备与优质的服务。除了台式设备之外我们还提供多种大型设备和定制服务。目前国内已有包括清华大学、西湖大学、大连理工大学、广东工业大学、中科院等多个单位采购了不同型号的Moorfield高性能薄膜制备与加工设备。

  解读四原子尺度实时表征与调控助力自旋芯片和集成电路产业发展——2023年度中国仪器仪表学会科学技术奖获奖项目

  为了支撑集成电路产业快速发展,集成电路高端装备制造已经上升为国家战略。破解集成电路产业“卡脖子”问题,一大关键是实现高端装备制造的自主可控。(1)自主创新面向后摩尔时代集成电路领域高水平科技自立自强的重大需求,亟需打破垄断、突破相关高端装备关键制造技术。北京航空航天大学赵巍胜教授团队创新突破超高精度复杂薄膜制备、多靶超高真空共溅射技术,超高真空下超快磁光测量技术,离子束调控设备高真空集成、离子束能量连续精确调节技术,超高真空互联和无磁传输技术,研制全球首套原子尺度界面自旋电子的原位实时表征与调控系统,应用于自旋芯片相关技术研究,并对关键技术突破进行产业化应用推广。超高线年开始进行自旋芯片制造和测试核心设备工程化开发:超高真空磁控溅射设备,薄膜沉积精度达到单原子层级别;多物理场高分辨率磁光克尔显微镜,关键技术指标如磁场反应特征时间达到400 ns;晶圆级磁光克尔测试仪可用于自旋芯片生产过程中的晶圆薄膜性质精确表征。系列自旋芯片材料制备和表征仪器的研制成功和推广应用,填补了相关领域的空白,促进了我国自旋芯片和集成电路产业的独立自主发展。晶圆级磁光克尔测试仪(3)产学研结合目前团队基于技术推广应用,联合致真精密仪器(青岛)有限公司和合肥致真精密设备有限公司两家仪器设备公司,完成超高线类设备的研制和量产,相关成果已应用于清华大学、中科院物理所、北京超弦存储器研究院、中国电科集团、电子科技大学、上海科技大学、中国计量大学、吉林大学等行业顶尖单位,实现了集成电路领域若干“卡脖子”设备的国产替代,推动了自旋芯片产业发展,取得了显著的经济效益和社会效益,累计创造经济产值7000余万元。2023年10月,“原子尺度界面自旋电子的原位实时表征与调控系统”项目荣获中国仪器仪表学会科技进步一等奖。

  一、项目基本情况1、项目编号:豫财招标采购-2023-12202、项目名称:河南省科学院中原量子谷仪器共享中心四期建设项目3、采购方式:公开招标4、预算金额:29,311,200.00元最高限价:29311200元序号包号包名称包预算(元)包最高限价(元)1豫政采(2)20231986-1包1:X射线:X射线粉末射仪(落地式)、电子顺磁共振波谱仪、磁控溅射镀膜系统、热蒸发镀膜仪、电化学工作站豫政采(2)20231986-3包3:有机元素分析仪、傅里叶变换红外光谱仪、瞬态稳态荧光光谱仪、原子力显微镜豫政采(2)20231986-4包4:电感耦合等离子体发射光谱仪、拉曼光谱仪、高级流变仪拓展系统、形状测量激光显微系统、圆二色谱仪、采购需求(包括但不限于标的的名称、数量、简要技术需求或服务要求等)5.1项目地点:郑州(采购方指定地点)5.2招标范围:河南省科学院中原量子谷仪器共享中心四期建设项目:包含X射线光电子能谱仪、X射线粉末射仪(落地式)、电子顺磁共振波谱仪、磁控溅射镀膜系统、热蒸发镀膜仪、电化学工作站、有机元素分析仪、傅里叶变换红外光谱仪、瞬态/稳态荧光光谱仪、原子力显微镜、电感耦合等离子体发射光谱仪、拉曼光谱仪、高级流变仪拓展系统、形状测量激光显微系统、圆二色谱仪等仪器配套设施的采购、安装、调试、验收及质保服务等工作。5.3标包划分:本招标项目共划分两个标包。5.4计划供货安装周期:包1:签订合同后240日历天内完成供货、安装;包2:签订合同后180日历天内完成供货、安装;包3:签订合同后180日历天内完成供货、安装;包4:签订合同后180日历天内完成供货、安装。5.5质量要求:合格,满足采购人要求。6、合同履行期限:详见招标文件要求。7、本项目是否接受联合体投标:否8、是否接受进口产品:是9、是否专门面向中小企业:否二、获取招标文件1.时间:2023年11月21日 至 2023年11月27日,每天上午00:00至12:00,下午12:00至23:59(北京时间,法定节假日除外。)2.地点:登录河南省公共资源交易中心();3.方式:凭CA密钥市场主体登录并在规定时间内按网上提示下载招标文件及资料;投标人需要完成信息登记及CA数字证书办理,才能通过省公共资源交易平台参与交易活动,具体办理事宜请查询河南省公共资源交易中心网站-公共服务-办事指南-新交易平台使用手册(培训手册))。4.售价:0元三、凡对本次招标提出询问,请按照以下方式联系1. 采购人信息名称:河南省科学院地址:郑州市郑东新区龙子湖湖心岛崇德街与明理路交叉口西南角联系人:何老师联系方式2.采购代理机构信息(如有)名称:河南豫信招标有限责任公司地址:郑州市郑东新区商务外环路3号中华大厦16、19层联系人:周圆芳 刘梦柯 李玉龙 张娜联系方式/613119023.项目联系方式项目联系人:周圆芳 刘梦柯 李玉龙 张娜联系方式/61311902

  微塑料通常被定义为尺寸小于5 mm的塑料碎片,在海洋、陆地、淡水系统中均有所发现,对环境安全和生物健康均有一定程度的影响。更令人担忧的是,微塑料通过机械磨损、光降解和生物降解等作用会进一步分解,形成尺寸更小的微塑料甚至是纳米塑料。它们的危害可能更大,因为它们可以穿过生物膜并容易在不同组织间转移,如果吸入空气中的微纳塑料甚至可以穿过肺组织。据已有的研究显示,应用在微塑料检测的传统技术仅能检测到10 μm 左右的大小,远远不能满足当前和未来研究的需要。因此,迫切需要开发适用于小尺寸微纳塑料的检测新方法。表面增强拉曼光谱(SERS)技术是一种强有力的基于拉曼光谱的原位分析技术。一般来说,分子的拉曼效应很弱。然而,当这些分子被吸附在贵金属(例如金和银)的粗糙表面时,分子的拉曼效应会大大提高。甚至可以在单分子水平上获得高灵敏度。在我们之前的研究工作中,首次报道利用SERS技术实现了环境纳米塑料的检测(EST, 2020, 54(24): 15594)。但是,采用的商业化Klarite基底的高昂成本使其不适宜广泛大规模的应用。因此,本研究利用一种低成本的具有大量有序的V型纳米孔阵列的阳极氧化铝(AAO)模板,通过磁控溅射或离子溅射将金纳米粒子沉积在模板上,开发得到用于小尺寸微纳塑料检测的 SERS 基底(AuNPs@V-shaped AAO SERS substrate)。由于AAO模板中纳米孔阵列特殊的V型结构以及有序规则的排列,使得AuNPs@V-shaped AAO SERS基底可以提供大量“热点”和额外的体积增强拉曼效应,在检测微塑料时表现出高 SERS 灵敏度。图1 摘要图本研究首先使用不同尺寸(1 μm、2 μm和5 μm)的聚苯乙烯(PS)和聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)两种标准样品在AuNPs@V-shaped AAO SERS基底和硅基底上进行检测,并计算相应的增强因子(图2、图3)。结果显示,单个PS和PMMA两种颗粒在硅基底上均不能检测到1 μm的尺寸大小,且其他尺寸的拉曼信号强度也相对较弱。而在AuNPs@V-shaped AAO SERS基底上,在相同的检测条件下,各尺寸的单个PS和PMMA颗粒的拉曼信号强度大大增强,且1 μm的PS和2 μm的PMMA都有拉曼信号检出。增强因子的计算结果显示,使用AuNPs@V-shaped AAO SERS基底检测单个微塑料颗粒可获得最大20倍的增强效果。此外,通过比较磁控溅射和离子溅射两种沉积方式所分别形成的基底检测微塑料的拉曼光谱结果和增强因子计算结果,我们可以得出磁控溅射所形成的基底具有更好的检测性能。这个结果可以联系到SERS基底的扫描电镜表征结果(图4)进行解释,磁控溅射所形成的金纳米层更加细腻平整,而离子溅射所形成的金纳米层出现了一定的团聚,导致形貌结构较为粗糙,因此信号强度有所减弱。图2:PS的拉曼检测。(a)不同尺寸的单个PS颗粒在硅基底上的拉曼光谱;(b)显微镜下不同尺寸的单个PS颗粒在硅基底上的形态分布;(c)不同尺寸的单个PS颗粒在离子溅射形成的SERS基底上的拉曼光谱;(d)不同尺寸的单个PS颗粒在磁控溅射形成的SERS基底上的拉曼光谱;(e)显微镜下不同尺寸的单个PS颗粒在磁控溅射形成的SERS基底上的形态分布;(f)显微镜下不同尺寸的单个PS颗粒在离子溅射形成的SERS基底上的形态分布;(g)增强因子的箱线:PMMA的拉曼检测。(a)不同尺寸的单个PMMA颗粒在硅基底上的拉曼光谱;(b)显微镜下不同尺寸的单个PMMA颗粒在硅基底上的形态分布;(c)不同尺寸的单个PMMA颗粒在离子溅射形成的SERS基底上的拉曼光谱;(d)不同尺寸的单个PMMA颗粒在磁控溅射形成的SERS基底上的拉曼光谱;(e)显微镜下不同尺寸的单个PMMA颗粒在磁控溅射形成的SERS基底上的形态分布;(f)显微镜下不同尺寸的单个PMMA颗粒在离子溅射形成的SERS基底上的形态分布;(g)增强因子的箱线:AAO模板和SERS基底的扫描电镜表征。(a)空白的AAO模板;(b)经过离子溅射形成的SERS基底;(c)经过磁控溅射形成的SERS基底;(d)(e)微塑料标准样品在基底上的形态分布。之后,本研究采集了雨水作为大气样品,对基底检测实际样品的能力进行了测试。采集到的雨水样品经过过滤、消解等前处理后,被滴加在基底上进行后续的拉曼检测,获得若干疑似微塑料的拉曼光谱。通过将这些采集到的拉曼光谱与标准微塑料样品的拉曼光谱进行比对,找到了雨水样品中所含有的微纳塑料颗粒,证实了大气中微塑料颗粒的存在以及基底检测实际样品的能力。图5:雨水样品的检测。(a)在基底上发现的疑似微塑料颗粒,尺寸约为2 μm × 2 μm;(b)疑似微塑料颗粒的拉曼光谱。该研究了提出了一种新型的适用于环境微纳塑料检测的低成本SERS基底,具备热点均一、增强效果好的优点,有望推广到环境各介质中微纳塑料的检测,为尺寸更小的纳米塑料检测分析提供了新方法。

  p近日,中国科学院长春光学精密机械与物理研究所应用光学国家重点实验室金春水研究团队在极紫外多层膜膜厚分布超高精度控制研究方面取得新进展:通过采用遗传算法,实现了Φ200mm曲面基底上极紫外多层膜膜厚分布控制精度优于± 0.1%,镀膜引起的不可补偿面形误差小于0.1nmRMS,相关指标达到国际先进水平。相关结果在线发表于近期的10.1364/OL.40.003958)上。/pp极紫外多层膜反射镜是极紫外光刻系统的核心光学元件。极紫外光刻系统需要高性能的极紫外多层膜,包括高反射率、低应力、高稳定性和高均匀性。对于极紫外光刻系统中的投影物镜,必须对镀制在其上的极紫外多层膜进行超高精度的膜厚分布控制,以便实现波长匹配和减小镀膜引起的面形误差。/pp该研究团队采用遗传算法,完成了磁控溅射源特性参数的反演和用于控制膜厚分布的公转调速曲线的反演,避免了直接测量磁控溅射速率空间分布的繁琐过程,减少了极紫外多层膜膜厚控制工艺的迭代次数,大大降低了获得超高膜厚分布精度极紫外多层膜反射镜的工艺成本。/pp该工作得到了“国家科技重大专项-02专项”项目经费的支持。/pp style=text-align: center img src=长春光机所极紫外多层膜膜厚分布超高精度控制研究获进展/ppbr//p

  x射线多层膜在静态和超快x射线衍射中的应用x射线光学组件类型根据x射线和物质作用的不同原理和机制,目前主流的x射线光学组件可以大致分为四类:以滤片、窗片、针孔光阑为代表的吸收型组件;基于反射,全反射原理的各种镜片以及毛细管、波导等反射型器件,还有基于折射原理的各种复折射镜。而本文的主题多层膜镜片,其底层原理和晶体、光栅、波带片一样,都是基于衍射原理。吸收型反射型折射型衍射型滤片窗口针孔/光阑镜片:kb、wolter、超环面镜… … 毛细管:玻璃毛细管、金属镀层毛细管复折射镜:抛物面crl、菲涅尔crl、马赛克crl、… … 晶体光栅多层膜波带片多层膜的原理和工艺一般来说,反射型镜片存在“掠射角小、反射率低”的问题。而多层膜镜片则是通过构建多个反射界面和周期,并使反射界面等周期重复排列,相邻界面上的反射线有相同的相位差,就会发生干涉,如果相位差刚好为2pi的整数倍,则会干涉相长,得到强反射线。从布拉格公式可以看出:多层膜就是通过对d值的控制,来实现波长选择的人工晶体。而在工艺实现方面,目前制备x射线多层膜镜的主要工艺有:磁控溅射、电子束蒸镀、离子束蒸镀。一般使用较多的是磁控溅射或离子束镀膜工艺,即在基板上交替沉积金属和非金属层,通过选择材料,控制镀膜的厚度及周期的选定,实现对硬x射线到真空紫外波段的光的调制。上图为来自德国incoatec的四靶材磁控溅射镀膜系统。可实现多种膜系组合的高精度镀膜。[la/b4c]40 多层膜b-kα(183ev)用多层膜,d:10nm单层膜厚:1-10nm0.x nm的镀膜精度tem: 完美的镀层界面frank hertlein, a.e.m. 2008上图为40层la-b4c多层膜的剖面透射电镜图像和选区电子衍射,弥散的衍射环说明膜层是非晶结构。同时可以明显看到:周期为10nm的膜层界面非常清晰和规则。这套镀膜系统可获得0.x nm的镀膜精度。多层膜的特点示例—单色和塑形多层膜最显著的特点和优势在于可以通过基底的面型控制和镀层的膜厚控制,将x光的塑形和单色统一起来。当然,这是以精度极高的镀膜工艺为前提。下图的数据展示了进行梯度渐变镀膜时,从镜片一端到另一端镀膜的周期设计数值 vs. 实际工艺水平。可以看到:长度为150mm的基底上,单层镀膜膜厚需要控制在3.8-5.7nm,公差需要在1%以内。相当于在1500公里的长度上,厚度起伏要控制mm水平。这是非常惊人的原子层级的工艺水平。frank hertlein, a.e.m. 2008通过面型控制来实线x射线的塑形;通过极高精度的膜厚控制实现2d值渐变—继而实现单色;0.x nm尺度的镀膜误差——需要具备原子层级的工艺水平!多层膜的特点示例—带宽和反射率除了可以通过曲面基底和梯度镀膜实现对x光的塑形和单色,还可通过对膜层材料、膜厚、镀膜层数等参数的设计和控制,来实现带宽和反射率的灵活调整。如窄带宽的高分辨多层膜,以及宽带宽的高积分反射率多层膜。要实现高分辨:首先要选择对比度较低的镀膜材料,如be、c、b4c、或al2o3;其次减小膜的厚度,多层膜的厚度降为10~20å;最后增加镀膜层数,几百甚至上千。from c. morawe, esrf多层膜的特点示例—和现有器件的高度兼容左侧: [ru/c]100, d = 4 nm r 80% for 10 e 22 kev中间: si111 δorientation0.01°右侧: [w/si]100, d = 3 nm r 80% for 22 e 45 kevdcmm at sls, switzerland, m. stampanoni精密、灵活的膜层设计和镀膜控制镀膜材料的组合搭配;d/2d值的设计和控制;带宽和反射率的灵活调整。和现有器件的高度兼容多层膜主流应用方向目前,多层膜的主流应用方向和场景主要有:粉末、x射线荧光、单晶衍射以及同步辐射的单色、衍射、散射装置搭建。粉末衍射x射线荧光单晶衍射同步辐射基于dac的原位高压静态x射线衍射典型的静高压研究中,常利用金刚石对顶砧来获得一些极端条件。在极端的高压、高温下,利用x射线来诊断新的物相及其演化过程是重要的研究手段。x-ray probe利用金刚石对顶砧可以获得极端条件(数百gpa, 几千°c) 利用x射线探针来诊断和发现新物相;由于对x光源、探测器以及实验技术等方面的苛刻要求,尤其是需要将微束的x光,精准的穿过样品而不打到封垫上。长期以来,基于dac的x射线高压衍射实验只能在同步辐射实现。但同步辐射有限的机时根本无法满足庞大的用户需求。不能在实验室进行基于dac的x射线高压衍射实验和样品筛选,一直是广大高压科研群高压衍射实验室体的一大痛点。以多层膜镀膜工艺为技术核心,将多层膜镜片与微焦点x光源耦合,我们可以为科研用户提供单能微焦斑x射线源,使得在实验室实现高压衍射成为可能。下图是利用mo靶(左)和ag靶(右)单能微焦斑x射线源获得的dac加载下的lab6样品的衍射图。曝光时间300s,探测器为ip板,样品和ip板距离为200mm。可以看到:300s曝光获得的衍射数据质量是可接受的。特别地,对于银靶,由于其能量更高,可以压缩倒易空间,在固定的2thelta角范围内,可以获得更多的衍射信息,这对于很多基于dac的静高压应用来说非常有吸引力。dac加载下的lab6样品的衍射数据:多层膜耦合mo靶(左)和ag靶(右)曝光时间300s,探测器为ip板,样品和ip板距离为200mmbernd hasse, proc. of spie vol. 7448, 2009 (doi: 10.1117/12.824855)基于激光驱动超快x射线衍射在利用激光驱动的x射线脉冲进行超快时间分辨研究中,泵浦探针是常用的技术手段。脉宽为几十飞秒的入射激光经分束后,一路用于激发超快x射线脉冲,也就是探针光;另一路经倍频晶体倍频作为泵浦光。通过延时台的调节,控制泵浦激光和x射线探针到达样品的时间间隔,可实现亚皮秒量级时间分辨的测量。而在基于激光驱动的超快x射线衍射实验中,如何提升样品端的光通量?如何获得低发散角的单色光束?如何抑制飞秒脉冲的时间展宽?如何同时兼顾以上的实验要求?都是需要考虑的问题。很多时候还需要兼顾多个技术指标,所以我们非常有必要对各类光学组件和x射线飞秒脉冲源的耦合效果和特点有一个比较清晰的认知。四种光学组件和激光驱动x射线源的耦合效果对比首先我们先对弯晶、多层膜镜、多毛细管和单毛细管四种组件的聚焦效果有个直观的了解。以下是将四种光学组件和激光驱动飞秒x射线源耦合,然后进行了对比。四种光学组件在聚焦和离焦位置的光斑:激光参数:800nm/1khz/5mj/45fs源尺寸:10um 打靶产额:4*109 photons/s/sr这是四种组件的理论放大倍率和实测聚焦光斑的对比。可以看到:弯晶和多层膜的工艺控制精度很高,实测光斑和理论值比较接近。而毛细管的大光斑并不是工艺精度的误差,而是反射型器件的色差导致的,不同能量的光都会对聚焦光斑有贡献,导致光斑较大。而各种组件的工艺误差,导致的强度不均匀分布,则是在离焦位置处的光斑中得到较为明显的体现。ge(444)双曲弯晶多层膜镜片单毛细管多毛细管放大倍率1270.7收集立体角 (sr)+---++反射率--+++-有效立体角 (sr)---+++1维会聚角 (deg)+---++耦合输出通量(ph/s)---+++聚焦尺寸 (μm)2332155105光谱纯度好好差差时间展宽 (fs)++++--激光参数:800nm/1khz/5mj/45fs打靶产额:4*109 photons/s/sr等级: ++ + - --利用针孔+sdd,在单光子条件下,测量有无光学组件时的强度和能谱,可以推演出相应的技术参数。这里我们直接给出了核心参数的总结对比。其中,大多数用户最为关注,同时也是对于实验最为重要的,主要是有效立体角、输出光通量、光谱纯度和时间展宽。可以看到:典型的有效收集立体角在-4、-5sr的水平,而在样品上的输出光通量在5-6次方每秒这样的水平。但是需要指出的是:毛细管并不具备单色的能力,虽然有效立体角大,但输出的是复色光。对于时间展宽的比较,很难通过实验手段获得测量精度在几十到百飞秒水平的结果,所以主要通过理论分析和计算来获得。对于同为衍射型组件的ge(444)双曲弯晶和多层膜镜片,光程差引入项主要是x光在组件内的贯穿深度。对于ge(444),8kev对应的布拉格角约为70度,x光的衰减长度约为28um,对应的时间展宽约90fs。对于多层膜镜片,因为它属于掠入射型的衍射组件,x光的衰减长度在um量级,对应的时间展宽甚至可以到10fs水平,因此这里的数据相对比较保守的。而对于毛细管这种反射型器件,光程差引入项主要是毛细管的长度差。对于单毛细管,光程差在10fs水平,对于多毛细管,位于中心区域和边缘的子毛细管长度是有较大的差异的,光程差可达ps水平。小结1. 弯晶:单色性好、时间展宽较小、有效立体角小、输出通量低;2. 多层膜:单色性好、时间展宽较小、有效立体角大、kα输出通量高;3. 单毛细管:复色、时间展宽很小、有效立体角大、复色光通量高;4. 多毛细管:复色、时间展宽较大、有效立体角最大、复色光通量最高。每一种光学组件都有其适用的场景,对于非单色的超快应用,如超快荧光、吸收谱,毛细管可能更为合适,而对于追求单色的超快应用,如超快衍射,多层膜是比较好的选择,兼顾了单色性、时间展宽和有效立体角(输出通量)三个核心指标!如果您有任何问题,欢迎联系我们进行交流和探讨。北京众星联恒科技有限公司致力于为广大科研用户提供专业的x射线产品及解决方案服务!

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  为优化政府采购营商环境,提升采购绩效,《财政部关于开展政府采购意向公开工作的通知》(财库〔2020〕10号)等有关规定要求各预算单位按采购项目公开采购意向,内容应包括采购项目名称、采购需求概况、预算金额、预计采购时间等。近两年来,各大高校、科研院所等纷纷在相关平台公布本单位政府采购意向。中国科学院半导体研究所以国家重大需求为导向,开展前沿基础和应用技术研究,拥有2个国家级研究中心、3个国家重点实验室、2个院级实验室,并设有半导体集成技术工程研究中心、光电子研究发展中心、半导体照明研发中心、全固态光源实验室和元器件检测中心等,与地方政府、科研机构、大学和企业等共建了近40个联合实验室,在半导体领域取得了一系列科研成果,培养了一批批优秀人才。成果的产出和人才的培养都离不开仪器的支持,中国科学院半导体研究所每年都会投入一定的经费采购科学仪器,以建立具有国际先进水平的实验研究和测试平台。为方便仪器信息网用户及时了解仪器采购信息,本文特对中国科学院半导体研究所2022年1至12月政府采购意向进行了整理汇总。共收集到41个采购项目,预算金额相加达1.7亿元,采购品目涉及高分辨场发射透射电子显微镜、扫描电子显微镜、双腔分子束外延系统、金属有机气相化学沉积、高真空化学沉积系统、高分辨X射线衍射仪等多种仪器类型。中国科学院半导体研究所2022年政府采购意向汇总表序号项目名称预算金额(万元)采购日期项目详情1超低振动无液氦闭循环低温恒温器1802月详情链接2矢量超导磁体1902月详情链接3反应磁控溅射系统2933月详情链接4反应磁控溅射光学膜镀膜机2453月详情链接5低温线低温PL mapping测试设备230.025月详情链接7高分辨场发射透射电子显微镜8005月详情链接8双腔分子束外延系统(MBE)19835月详情链接9扫描电子显微镜(SEM)418.15月详情链接10ICP刻蚀机3555月详情链接11离子束沉积系统7005月详情链接12超高精密加工飞秒激光光源1665月详情链接13微光红外显微镜2805月详情链接14可调谐飞秒光参量放大器1515月详情链接15光/电芯片贴片键合系统1795月详情链接16高精度光路偏振综合测试系统1106月详情链接17金属有机气相化学沉积(MOCVD)16596月详情链接18超声扫描显微镜1206月详情链接19参数曲线窄线宽激光器自动光学耦合机1156月详情链接21高性能计算集群9006月详情链接22高分辨X射线MOCVD外延生长设备15006月详情链接2467G矢量网络分析仪2297月详情链接25闭式冷却塔3907月详情链接26高分辨X射线高温气相外延系统1707月详情链接29高分辨场发射透射电子显微镜7009月详情链接30高线基于宽谱光源的光纤电流传感装置测试系统1609月详情链接33人才配套支撑6009月详情链接34变温变磁场输运测量系统1809月详情链接35扫描电子显微镜5309月详情链接36低温半导体参数综合测试设备162.810月详情链接37磁控溅射设备18010月详情链接38高分辨X射线晶圆表面缺陷扫描测试系统17210月详情链接41高分辨X射线月详情链接

  AM:低温强磁场磁力显微镜助力化合物薄膜中纳米尺度非共线自旋结构研究取得重要进展

  近年来,磁性斯格明子受到了广泛的关注。这些拓扑保护的非共线磁性自旋结构纳米粒子稳定在反转对称破坏的磁性化合物中,是手性洛辛斯基-莫里亚相互作用(DMI)以及铁磁交换相互作用的结果。为广泛研究的自旋结构先是在单晶和外延薄膜中非中心对称B20化合物中观察到的类布洛赫斯格明子,其次是在超薄铁磁层和重金属层形成的薄膜异质结构中的斯格明子。对非共线自旋结构的观察很多都是利用从晶体中提取的薄片进行的。磁性纳米粒子,即反斯格明子和布洛赫斯格明子,已被发现同时存在于由具有二维对称的反四方赫斯勒化合物形成的单晶片层中。然而,制作四方赫斯勒化合物的薄膜以及在其中的自旋结构测量仍然具有挑战性。图1. 100K温度MFM成像研究35 nm厚Mn2RhSn薄膜中纳米磁性结构的演化 通过各种直接成像技术可以在真实空间中观察到斯格明子。近期,德国科学家Parkin等人使用低温强磁场磁力显微镜(MFM)成像来研究[001]取向的Mn2RhSn薄膜中的磁性结构。图1展示了在100K下随磁场增加而变化的典型MFM结果。为了进一步研究Mn2RhSn薄膜中观察到的纳米物体的稳定性,在矢量磁场存在下对35 nm厚的薄膜进行了MFM测量(图2)。图2 :200K温度下,35 nm厚Mn2RhSn薄膜中纳米粒子在矢量磁场中的稳定性科学家在很大的温度范围内(从2k到280K)和磁场的作用下观察磁性纳米物体,从研究结果可知,形成不同的椭圆和圆形的大小孤立粒子取决于场和温度(图3)。此外,借助于由MFM产生的局部磁场梯度,科学家还演示了这些纳米粒子的产生和湮灭(图4)。图3. 35 nm厚Mn2RhSn薄膜中, MFM研究不同温度下的纳米粒子, 图a-f分别是5K, 50K, 100K, 150K, 200K, 250K温度下MFM成像数据 图4. 基于MFM显微探针技术控制35 nm厚Mn2RhSn薄膜中纳米粒子的产生和湮灭综上所述,由磁控溅射形成的Mn2RhSn外延薄膜中存在磁性纳米粒子。类似于单晶薄片,这些纳米粒子在广泛的尺寸范围内以及在磁场和温度下都具有稳定性。然而,纳米粒子并没有形成明确定向的阵列,也没有任何证据发现螺旋自旋结构,这可能是薄膜中化学顺序均匀性较差导致的结果。然而,在外延薄膜中发现了沿垂直晶体方向的椭圆扭曲纳米粒子,这与在单晶片中观察到的椭圆布洛赫斯格明子一致。因此,这些测量结果为Mn2RhSn薄膜中非共线自旋结构的形成提供了强有力的证据。实验结果表明,在这些薄膜中,可以利用磁性的局部磁场来删除单个纳米物体,也可以写出纳米粒子的集合。 低温强磁场原子力/磁力显微镜attoAFM/MFM I主要技术特点:温度范围:1.8K ..300 K磁场范围:0...9T (取决于磁体, 可选12T,9T-3T矢量磁体等)工作模式:AFM(接触式与非接触式), MFM样品定位范围:5×5×4.8 mm3扫描范围: 50×50 μm2@300 K, 30×30 μm2@4 K 商业化探针可升PFM, ct-AFM, CFM,cryoRAMAN, atto3DR等功能 图5. 低温强磁场原子力磁力显微镜以及attoDRY2100低温恒温器 参考文献:[1]. Parkin et al, Nanoscale Noncollinear Spin Textures in Thin Films of a D2d Heusler Compound,Adv. Mater. 2021, 33, 2101323.

  2020年12月30日以来,中南大学高等研究中心微纳加工与器件制造平台密集发布了一系列招标公告,采购半导体设备,涉及光刻机、刻蚀机等设备,总预算达3550万元人民币。以下为采购清单:项目编号项目名称采购需求预算金额HNXZ-2020-ZB02-RKZB-0327-30《中南大学高等研究中心微纳加工及器件制造平台原位纳米机电加工系统采购项目》原位纳米机电加工系统1套760万元HZ20200207-0224《中南大学高等研究中心微纳加工及器件制造平台无掩膜光刻机采购项目》无掩膜光刻机1台560万元HZ20200201-0219《中南大学高等研究中心微纳加工与器件制造平台电子束蒸发仪、磁控溅射仪采购项目》电子束蒸发仪、磁控溅射仪各一台430万元HZ20200201-0223《中南大学高等研究中心微纳加工与器件制造平台反应离子刻蚀机、感应耦合等离子刻蚀机采购项目》反应离子刻蚀机、感应耦合等离子刻蚀机各一台600万元HZ20200202-0216《中南大学高等研究中心微纳加工与器件制造平台电子束曝光仪采购项目》电子束曝光仪1套1200万元

  仪器是科学创新的重要基础和条件,科学发现不仅仅需要理论创新,还需要依靠仪器进行实验观察和检测。中科院宁波材料所,作为新材料及相关领域的重要研究基地和技术提供者,至2021年12月底,共承担了各类科研项目5300多项,累计发表论文7200多篇,累计申请专利近5200件,授权专利近2700件,这一系列成果的取得离不开仪器的支持。为进一步开展科研,中科院宁波材料所于近日公布了一批仪器类政府采购意向,采购项目涉及高温凝胶色谱、扫描探针显微镜、核酸质谱分析系统、Micro-CT、核磁共振波谱仪、3D金属打印机等,预算金额相加达1.02亿元,预计采购时间为2022年6-11月。中科院宁波材料所2022年6-11月政府采购意向汇总表序号采购项目预算金额(万元)预计采购日期项目详情1超高线线扫描探针显微镜SPM/AFM1796月详情链接6氧氮氢分析仪1106月详情链接7全电动磁场成型压机1996月详情链接8微束定点离子刻蚀修复系统3646月详情链接9涵道测试大功率直流电源86.36月详情链接10地面综合测试直流电源526月详情链接11涵道风扇测力试验台906月详情链接12三轴转台836月详情链接13无人机测控系统4006月详情链接14AVDIM管理软件656月详情链接15地面综合测试设备3506月详情链接16混合动力综合能源试车台及管理系统60011月详情链接17发动机15011月详情链接18发电机10011月详情链接19电池20011月详情链接20综合控制器10011月详情链接21飞控系统12011月详情链接22组合导航系统6011月详情链接23海水电解10 kW设备20010月详情链接24Power-to-X(P2X)-高通量测试分析系统15010月详情链接25千克级装填量固定床催化加氢装置20010月详情链接26小面积燃料电池评价系统17510月详情链接27全尺寸燃料电池评价系统19210月详情链接28热熔挤压机18510月详情链接29核酸质谱分析系统37010月详情链接30超灵敏蛋白组学检测系统26010月详情链接31Micro-CT32010月详情链接32600MHz(低温)核磁共振波谱仪99010月详情链接33等温滴定微量热仪11510月详情链接34自动化飞秒瞬态吸收光谱仪44610月详情链接35双通道型台式三维原子层沉积系统23410月详情链接36X射线岱山液态聚碳硅烷工程化装置35010月详情链接38无液氦综合物性测量系统50010月详情链接39互联磁控溅射系统22010月详情链接40X射线L聚酯反应系统10310月详情链接

  纳米薄膜材料制备技术新进展!——牛津大学也在用的薄膜沉积系统,有什么独特之处?

  一、纳米颗粒膜制备日前,由英国著名的薄膜沉积设备制造商Moorfield Nanotechnology公司生产的套纳米颗粒与磁控溅射综合系统在奥地利的莱奥本矿业大学Christian Mitterer教授课题组安装并交付使用。该设备由MiniLab125型磁控溅射系统与纳米颗粒溅射源共同组成,可以同时满足用户对普通薄膜和纳米颗粒膜制备的需求。集成了纳米颗粒源的MiniLab125磁控溅射系统 传统薄膜材料的研究专注于制备表面平整、质地致密、晶格缺陷少的薄膜,很多时候更是需要制备沿衬底外延生长的薄膜。然而随着研究的深入,不同的应用方向对薄膜的需求是截然不同。在表面催化、过滤等研究方向,需要超大比表面积的纳米薄膜。在这种情况下,纳米颗粒膜具有不可比拟的优势。而传统的磁控溅射在制备纯颗粒膜方面对于粒径尺寸,颗粒均匀性方面无法实现控制。气相沉积法、电弧放电法、水热合成法等在适用性、操作便捷性、与传统样品处理的兼容性等方面不友好。在此情况下,Moorfield Nanotechnology推出了与传统磁控溅射和真空设备兼容的纳米颗粒制备系统。不同条件制备的颗粒粒径分布(厂家测试数据)不同颗粒密度样品(厂家测试数据)纳米颗粒制备技术特点:▪ 纳米颗粒的大小1 nm-20 nm可调;▪ 多可达3重金属,可共沉积,可制备纯/合金颗粒;▪ 材料范围广泛,包括Au、Ag、Cu、Pt、Ir、Ni、Ti、Zr等▪ 拥有通过控制气氛制造复合纳米粒子的可能性(类似于反应溅射)▪ 的纳米颗粒层厚度控制,从亚单层到三维纳米孔▪ 纳米颗粒结构——结晶或非晶、形状可控纳米颗粒膜的应用方向:▪ 生命科学和纳米医学: 癌症治疗、药物传输、抗菌、抗病毒、生物膜▪ 石墨烯研究方向:电子器件、能源、复合材料、传感器▪ 光电研究:光伏研究、光子俘获、表面增强拉曼▪ 催化:燃料电池、光催化、电化学、水/空气净化▪ 传感器:生物传感器、光学传感器、电学传感器、电化学传感器 二、无机无铅光伏材料下一代太阳能电池的大部分研究都与铅-卤化物钙钛矿混合材料有关。然而,人们正不断努力寻找具有类似或更好特性的替代化合物,想要消除铅对环境的影响,而迄今为止,这种化合物一直难以获得。因此寻找具有适当带隙范围的无铅材料是很重要的,如果将它们结合起来,就可以利用太阳光谱的不同波长进行发电。这将是提高未来太阳能电池效率降低成本的关键。近期,牛津大学的光电与光伏器件研究组的Henry Snaith教授与Benjamin Putland博士研究了具有A2BB’X6双钙钛矿结构的新型无机无铅光伏材料。经过计算该材料具有2 eV的带隙,可用做光伏电池的层吸光材料与传统Si基光伏材料很好的结合,使光电转换效率达到30%。与有机钙钛矿材料相比,无机钙钛矿材料具有结构稳定使用寿命更长的优势。而这种新材料的制备存在一个问题,由于前驱体组分的不溶性和复杂的结晶过程容易导致非目标性的晶体生长,因此难以通过传统的水溶液法制备均匀的薄膜。Benjamin Putland博士采用真空蒸发使这些问题得以解决。使用Moorfield Nanotechnology的高质量金属\有机物热蒸发系统,通过真空蒸发三种不同的前驱体,研究人员成功沉积制备出了所需要的薄膜。真空蒸发具有较高的控制水平和可扩展性,使得材料的工业化制备成为可能。所制备的薄膜在150℃退火后,XRD图。所制备的薄膜在150℃退火后,表面SEM图 三、Moorfield 薄膜制备与加工系统简介Moorfield Nanotechnology是英国材料科学领域高性能仪器研发公司,成立二十多年来专注于高质量的薄膜生长与加工技术,拥有雄厚的技术实力,推出的多种高性能设备受到科研与工业领域的广泛好评。高精度薄膜制备与加工系统 – MiniLab旗舰系列和nanoPVD台式系列是英国Moorfield Nanotechnology公司经过多年技术积累与改进的结晶。产品的定位是配置灵活、模块化设计的PVD系统,可用于高质量的科学研究和中试生产。设备的功能和特点:▪ 蒸发设备:热蒸发(金属)、低温热蒸发(有机物)、电子束蒸发▪ 磁控溅射:直流&射频溅射、共溅射、反应溅射▪ 兼容性:可与手套箱集成、满足特殊样品制备▪ 其他功能设备:二维材料软刻蚀、样品热处理▪ 设备的控制:触屏编程式全自动控制

  为优化政府采购营商环境,提升采购绩效,《财政部关于开展政府采购意向公开工作的通知》(财库〔2020〕10号)等有关规定要求各预算单位按采购项目公开采购意向,内容应包括采购项目名称、采购需求概况、预算金额、预计采购时间等。近两年来,各大高校、科研院所等纷纷在相关平台公布本单位政府采购意向。中国科学院光电技术研究所(简称光电所)始建于1970年。建所以来,围绕国家重大战略需求,聚焦世界科技前沿开展光电领域基础性、前瞻性、颠覆性的创新研究,逐步成为国家科技战略体系中不可或缺的光电科技力量。光电所建有微细加工光学技术国家重点实验室、中国科学院光束控制重点实验室、中国科学院自适应光学重点实验室、中国科学院空间光电精密测量技术重点实验室,和光电工程总体研究室等10个创新研究室,以及中科院成都几何量及光电精密机械测试实验室;还建有精密机械制造、先进光学研制、轻量化镜坯研制、光学工程总体集成、质量检测等5个研制中心,以及科技信息中心等技术保障中心。目前承担有国家重点研发计划、自然科学基金、部委重大重点项目及企业委托开发项目研究,研究水平居国内领先或国际先进。成果的产出离不开仪器的支持,中国科学院光电技术研究所每年都会投入一定的经费采购科学仪器,以建立具有国际先进水平的实验研究和测试平台。为方便仪器信息网用户及时了解仪器采购信息,本文特对中国科学院光电技术研究所2022年政府采购意向进行了整理汇总。共收集到16个仪器采购项目,预算金额相加为1.0248亿元,采购品目涉及磁控溅射、匀胶机、共聚焦显微镜、套刻精度检测设备、光学系统辐射定标系统、力矩测量系统、抛光机等多种仪器设备类型。序号采购项目名称采购品目预算金额(万元)预计采购日期项目详情1亚分辨辅助图形(SRAF)添加软件A6月详情链接2光学邻近效应修正(OPC)验证软件A6月详情链接3磁控溅射A06月详情链接4套刻精度检测设备A06月详情链接5大口径光学系统辐射定标系统A033499其他专用仪器仪表5606月详情链接6微干扰力-力矩测量系统A033499其他专用仪器仪表1706月详情链接7大口径高精度匀胶机A033499其他专用仪器仪表8806月详情链接8φ800线其他专用仪器仪表5386月详情链接10空间环境辐照模拟仿线光学级聚酰亚胺薄膜线其他仪器仪表4506月详情链接13球面数控抛光机A021099其他仪器仪表3306月详情链接14光学中继通道检测装置A021099其他仪器仪表2406月详情链接15大口径共聚焦显微镜A8月详情链接16环境监测数据综合分析系统A8月详情链接

  哈工大郑州研究院260.00万元采购电化学工作站,天平,高低温试验箱,探针台,超纯水器,电化学部件,...

  详细信息 哈工大郑州研究院磁控溅射镀膜机等一批设备采购项目公开招标公告 河南省-郑州市 状态:公告 更新时间: 2023-10-22 哈工大郑州研究院磁控溅射镀膜机等一批设备采购项目公开招标公告 一、项目基本情况 1.采购项目编号:豫教招标采购-2023-112 2.采购项目名称:哈工大郑州研究院磁控溅射镀膜机等一批设备采购项目 3.采购方式:公开招标 4.预算金额:260万元 最高限价:260万元 序号 包名称 包预算(万元) 包最高限价(万元) 1 哈工大郑州研究院磁控溅射镀膜机等一批设备采购项目 260 260 5.采购需求 5.1项目概况:根据哈工大郑州研究院需。